(28) 12 * << * >> * Русский * English * Содержание * Все выпуски

ОПТИМИЗАЦИЯ ПАРАМЕТРОВ УСТРОЙСТВА ТРИБОМЕТРИЧЕСКОГО ИЗМЕРЕНИЯ ЧИСТОТЫ ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖЕК
Н.Л. Казанский, В.А. Колпаков, А.И. Колпаков, С.В. Кричевский, Н.А. Ивлиев
Институт систем обработки изображений РАН
Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева

 PDF, 675 kB

Страницы: 76-79.

Язык статьи: Русский.

Аннотация:
Проведена оптимизация параметров и режимов работы устройства экспресс-контроля чистоты поверхности, реализующего метод трибометрического взаимодействия двух подложек. В результате оптимизации определены количественные значения параметров и режимы работы устройства, при которых осуществляется прецизионное измерение чистоты поверхности подложек. Показано, что применение совместно с устройством экспресс-контроля компьютерного анализа обеспечивает возможность многократного использования подложки-индентора при контроле чистоты всей площади поверхности подложек, а также поверхностей с разной степенью загрязнения.

Keywords:
tribometric device, surface cleanliness, computer-aided analysis, contamination level

Citation:
Kazanskiy NL, Kolpakov VA, Kolpakov AI, Krichevsky SV, Ivliev NA. Parameter optimization of a tribometric device for rapid assessment of substrate surface cleanliness. Computer Optics 2005; 28: 76-79.

Литература:

  1. Моро У. Микролитография. Принципы, методы, материалы / Под ред. Р.Х. Тимерова. М.: Мир, 1990. Ч. 2. - 632 с.
  2. Wayne M. Moreau. Semiconductor Lithography. Principles, Practices, and Materials. N.Y. and London, Plenum Press, 1988.
  3. Методы компьютерной оптики / Под ред. В.А. Сойфера. М.: Физматлит, 2000. - 688 с.
  4. Полтавцев Ю.Г., Князев А.С. Технология обработки поверхности в микроэлектронике // Киев: Тэхника, 1990. - 192 с.
  5. Волков А.В., Колпаков А.И. Способ определения чистоты поверхности подложек // А. с. № 1821688. Кл. G 01 N 13/02, 1993.
  6. Колпаков В.А., Колпаков А.И., Кричевский С.В. Устройство экспресс-контроля чистоты поверхности диэлектрических подложек // Приборы и техника эксперимента. 1995. № 5. С. 199-200.
  7. Колпаков В.А. Формирование оптического микрорельефа на диоксиде кремния в плазме газового разряда высоковольтного типа // Дис. … канд. физ.-мат. наук. Самара, 2004.

© 2009, IPSI RAS
Россия, 443001, Самара, ул. Молодогвардейская, 151; электронная почта: journal@computeroptics.ru; тел: +7 (846) 242-41-24 (ответственный секретарь), +7 (846) 332-56-22 (технический редактор), факс: +7 (846) 332-56-20