Тонкопленочная медь как маскирующий слой в процессе плазмохимического травления кварца
Волков А.В., Володкин Б.О., Дмитриев С.В., Ерополов В.А., Моисеев О.Ю., Павельев В.С.

Институт систем обработки изображений РАН, Самара, Россия, 

Самарский государственный аэрокосмический университет, Самара, Россия

Аннотация:
В работе рассматривается методика формирования микрорельефов дифракционных оптических элементов плазмохимическим травлением с применением в качестве материала маскирующего слоя меди.

Литература:

  1. Моисеев О.Ю. Формирование и исследование дифракционного микрорельефа на торце галогенидного ИК волновода / Бородин С.А., Волков А.В., Казанский Н.Л., Карпеев С.В., Моисеев О.Ю., Павельев В.С., Якуненкова Д.М., Рунков Ю.А., Головашкин Д.Л. // Компьютерная оптика, 2005. - №27. - С. 45-49.
  2. Киреев В.Ю. Плазмохимическое и ионно-химическое травление микроструктур / В.Ю. Киреев, Б.С. Данилин, В.И. Кузнецов. - М.: Радио и связь, 1983. - 126 с.
  3. Технологическое применение низкотемпературной плазмы / Под ред. Н.Н. Семашко - М.: Энергоатомиздат, 1983. - 144 с.
  4. Плазменная технология в производстве СБИС: Пер. с англ. с сокращ. / Под ред. Н. Айнспрука, Д. Брауна. - М.: Мир, 1987. - 470 с.

© 2009, ИСОИ РАН
Россия, 443001, Самара, ул. Молодогвардейская, 151; электронная почта: ko@smr.ru ; тел: +7 (846 2) 332-56-22, факс: +7 (846 2) 332-56-20