(16) 03 * << * >> * Русский * English * Содержание * Все выпуски

МЕТОД ФОРМИРОВАНИЯ ДИФРАКЦИОННОГО МИКРОРЕЛЬЕФА НА ОСНОВЕ ПОСЛОЙНОГО НАРАЩИВАНИЯ ФОТОРЕЗИСТА
А.В.Волков, Н.Л.Казанский, О.Ю.Моисеев, В.А.Сойфер

 PDF, 419 kB

Страницы: 12-14

Язык статьи: Русский.

Аннотация:
Предлагаемый относительно простой и недорогой метод формирования дифракционного микрорельефа проанализирован на примере изготовления ДОЭ для дальнего ИК-диапазона. Испытания изготовленного ДОЭ в оптической установке продемонстрировали хорошие оптические свойства и возможность для оптического элемента выдерживать многомодовое лазерное излучение мощностью до 500 Вт при диаметре освещающего пучка не менее 50 мм. Используя факт наличия клина при проявлении фоторезиста [9,10] в перспективе можно получить рельеф многоуровневой дискретной структуры максимально приближенный к полутоновому рельефу .

Citation:
Volkov AV, Kazansky NL, Moiseev OY, Soifer VA. A method for the diffractive microrelief formation using the layered photoresist growth. Computer Optics 1996; 16: 12-14.

Литература:

  1. Сисакян И.Н., Сойфер В.А. Компьютерная оптика. Достижения и проблемы // Компьютерная оптика, вып.1.- М.: МЦНТИ. - 1987. - С.5-19.
  2. Morkry P. Unique applications of computergenerated diffractive optical elements // Proceedings SPIE. - 1989. - Vol.1052. - P.163-170.
  3. Leger J.R., Moharam M.G., Gaylord T.K. Diffractive optics: an introduction to the feature issue // Applied Optics. - 1995. - Vol.34, No 14. - P.2399-2400.
  4. Попов В.В. Материалы и методы для создания плоских фокусирующих элементов // Компьютерная оптика. - М.: МЦНТИ, 1987. - Вып.1. - С.160-163.
  5. Аристов В.В., Бабин С.В., Ерко А.И. Возможности технологии микроэлектроники для создания элементов компьютерной оптики // Компьютерная оптика. - М.: МЦНТИ, 1989. - Вып.4. - С.61-65.
  6. The technology of fabricating focusators of infrared laser radiation / Golub M.A., Rybakov O.E., Usplenjev G.V., Volkov A.V., Volotovsky S.G. // Optics and Laser Technology. - 1995. - Vol.27, No 4. - P.215-218.
  7. Rectangular-apertured micro-Fresnel lens arrays fabricated by electron-beam lithography / Shiono T., Setsune K., Yamazaki O., Wasa K. // Applied Optics. - 1987. - Vol.26. - P.587-591.
  8. Бобров С.Т., Грейсух Г.И., Туркевич Ю.Г. Оптика дифракционных элементов и систем. - Л.: Машиностроение, 1986. - 224с.
  9. Черняев В.Н. Физико-химческие процессы в технологии РЭА.- М.: В.шк., 1987.- 376с.
  10. Валиев К.А. Физика субмикронной литографии. - М.: Наука. 1990. - 528с .

© 2009, IPSI RAS
Россия, 443001, Самара, ул. Молодогвардейская, 151; электронная почта: journal@computeroptics.ru; тел: +7 (846) 242-41-24 (ответственный секретарь), +7 (846) 332-56-22 (технический редактор), факс: +7 (846) 332-56-20