(19) 27 * << * >> * Русский * English * Содержание * Все выпуски

 PDF,446 kB

Страницы: 143 - 146.

Язык статьи: Русский.

Citation:
Volkov AV, Kazanskiy NL, Moiseev OY. Study of processes of photoresist deposition and etching to improve the accuracy of the wide DOE microrelief formation. Computer Optics 1999; 19: 143 - 146.

Литература:

1. Волков А.В., Казанский Н.Л., Моисеев О.Ю., Сойфер В.А. Метод формирования дифракционного микрорельефа на основе послойного наращивания фоторезиста // Компьютерная оптика. - М.: МЦНТИ, 1996. - Вып.16. С.12-14.
2. A.V. Volkov, N.L. Kazanskiy, O.Yu. Moiseev & V.A. Soifer. A Method for the Diffractive Microrelief Formatoin Using the Layered Photoresist Growth //Optics and Lasers in Engineering, vol. 29(1998). - Р.281-288.
3. D. Angel. Semicond. Int. April. 1983. - 72 P.
4. Ануфриенко В.В., Неустроев Е.М., Новикова Е.М. Влияние режимов центрифугирования на толщину и стабильность толщины пленок фоторезиста //Электронная техника, №1(33). 1970. - С.42-45.
5. Рафельсон Л.Л., Волков А.В., Бородин С.А., Иванова В.А. Устройство контроля чистоты поверхности подложек. А.с. №1741032 от 15 февраля 1992г.
6. Волков А.В., Колпаков А.И. Способ определения чистоты поверхности подложки. А.с. №1784868 от 1 сентября 1992г.
7. L.Whit. J. Electrochem, soc.130. 1983. 1543 P.
8. Арефьев Е.Ю., Гилев В.А., Голуб М.А., Казанский Н.Л., Карпеев С.В., Сисакян И.Н., Сойфер В.А., Соловьев В.С., Тихонов Д.Н., Уваров Г.В. Экспериментальное исследование плоского оптического элемента, фокусирующего в кольцо. //Компьютерная оптика, вып. 5. -М.: МЦНТИ, 1989. –С.49 – 54.
9. Казанский Н.Л. Исследование дифракционных характеристик фокусатора в кольцо методом вычислительного эксперимента. //Компьютерная оптика, вып10-11. -М.: МЦНТИ, 1989. –С.128 – 144.

---

© 2009, IPSI RAS
Россия, 443001, Самара, ул. Молодогвардейская, 151; электронная почта: journal@computeroptics.ru; тел: +7 (846) 242-41-24 (ответственный секретарь), +7 (846) 332-56-22 (технический редактор), факс: +7 (846) 332-56-20