(22) 10 * << * >> * Русский * English * Содержание * Все выпуски

СУХОЕ ТРАВЛЕНИЕ
ПОЛИКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ АЛМАЗНЫХ ПЛЕНОК
А.В. Волков, Н.Л. Казанский, Г.Ф. Костюк, В.С. Павельев
Институт систем обработки изображений РАН
Самарский государственный аэрокосмический университет

 PDF, 352 kB

Страницы: 50-52.

Язык статьи: Русский.

Аннотация:
Использование мощных СО2 лазеров в промышленности определяет актуальность создания силовых пропускающих дифракционных оптических элементов (ДОЭ) для дальнего ИК-диапазона. Последние достижения в области газофазного синтеза позволяют получать поликристаллические алмазные пленки (АП) с оптическими и теплофизическими свойствами, близкими к свойствам монокристаллов. В предлагаемой статье показана возможность формирования дифракционного микрорельефа на алмазных пленках методами сухого травления. Описана технологическая схема получения микрорельефа с помощью ионнохимического травления алмазной подложки. Приведенные результаты измерений сформированного микрорельефа подтверждают перспективность предлагаемого подхода.

Citation:
Volkov AV, Kazanskiy NL, Kostyuk GF, Pavelyev VS. Dry etching of polycrystalline diamond films. Computer Optics 2001; 22: 50-52.

Литература:
  1. Kononenko VV, Konov VI, Pimenov SM, Prokhorov AM, Pavelyev VS, Soifer VA. Diamond diffractive optical elements for high-power CO2 lasers [In Russian]. Sov J Quantum Electron 1999; 26(1): 9-10.
  2. Kononenko VV, Konov VI, Pimenov SM, Prokhorov AM, Pavelyev VS, Soifer VA. CVD diamond transmissive diffractive optics for CO2 lasers. New Diamond and Frontier Carbon Technology, 2000. Vol. 10. P. 97-107.
  3. Volkov AV, Kazanskiy NL, Soifer VA, Usplenyev GV. Technology of DOE fabrication. In Book: Soifer VA, ed. Methods of computer optics [In Russian]. Moscow: "Fizmatlit" Publisher; 2000: 239-310.
  4. Brown DM, Einspruch NG, eds. Plasma processing technology for VLSI. Academic Press; 1984.
  5. Braginsky BS, Kovalev AS, Muratov EA. Characteristics of a HF-discharge plasma in a transverse magnetic field [In Russian]. In Book: Proceedings of the Physics and Technology Institute. Problems of microelectronic technology. Vol 8. Moscow: "Nauka" Publisher; 1994: 29-37.
  6. Kireev VY, Danilin BS, Kuznetsov VI. Plasma chemical and ion chemical etching of microstructures [In Russian]. Vol 36. Moscow: "Radio i Svyaz" Publisher; 1983.
  7. Ivanovsky GF, Petrov VI. Ion-plasma treatment of materials [In Russian]. Moscow: "Sovetskoe Radio" Publisher; 1986.
  8. Danilin BS. Development prospects of vacuum-plasma etching of microstructures [In Russian]. Elektronnaya tekhnika. Ser 3. Microelectronics 1985; 3(115): 93-100.

© 2009, IPSI RAS
Россия, 443001, Самара, ул. Молодогвардейская, 151; электронная почта: journal@computeroptics.ru; тел: +7 (846) 242-41-24 (ответственный секретарь), +7 (846) 332-56-22 (технический редактор), факс: +7 (846) 332-56-20