(18) 18 * << * >> * Русский * English * Содержание * Все выпуски

Изготовление высокоэффективных ДОЭ с помощью полутоновых фотошаблонов на основе LDW-стекол
В. П. Корольков *, А. И. Малышев * В. Г. Никитин *,
А.Г. Полещук * А.А. Харисов * В.В. Черкашин *, By Чак **
* Институт автоматики и электрометрии СО РАН, Новосибирск, 630090, Россия
** CANYON MATERIALS Inc., San Diego, CA 92121, USA

 PDF, 2009 kB

Страницы: 121-126.

Язык статьи: Русский.

Аннотация:
Описаны результаты исследования поведения LDW стекол в широком диапазоне скоростей сканирования записывающего лазерного пучка. Рассмотрены особенности изготовления полутоновых фотошаблонов на лазерной записывающей системе с круговым сканированием. Обсуждаются результаты применения полутоновых фотошаблонов для изготовления высокоэффективных дифракционных линз .

Citation:
Korolkov VP, Malyshev AI, Nikitin VG, Poleshchuk AG, Kharissov AA, Cherkashin VV, Wu C. Application of gray-scale LDW-glass masks for fabrication of high-efficiency DOEs. Computer Optics 1998; 18: 121-126.

Литература:

  1. В.П. Корольков, В.П. Чернухин - Оптическая запись на пленках аморфного кремния с субмикронным разрешением. ЖТФ, т. 59, вып.6, 1989, стр. 131-133.
  2. V.Z. Gotchiyaev, V.P. Korolkov, А.Р. Sokolov, V.P. Chernukhin - High resolution optical recording on a-Si films. Jour. Non-Crystalline Solids, V.137-138, no 2, 1991, pp.1297-1300.
  3. Wu, Che-Kuang. High energy beam sensitive glasses. Патент США 5285517 C02B 6/00, 385/142, filed of June 26, 1992, published of February 8, 1994.
  4. W. Daschner, P. Long, R. Stein, C. Wu, S.H. Lee - Cost- effective mass fabrication of multilevel diffractive optical elements by use of a single optical exposure with a gray-scale mask on high-energy beam-sensitive glass, Appl. Opt., v.36, N20, 1997, pp.4675-4680.
  5. П. Перло, С. Синези, M. Рипетто, Г.В. Успленьев. Использование круговой лазерной записывающей системы для изготовления полутоновых шаблонов дифракционных оптических элементов на основе DLW glass пластинок. // Компьютерная оптика, №17, 1997, 85-93.
  6. А.Г. Полещук. - Изготовление высокоэффективных элементов дифракционной оптики с помощью полутоновой и фоторастровой технологий, Автометрия - 1991, N 3, С. 66-76.
  7. V.P. Korolkov, V.P. Koronkevich, A.I. Malyshev, V.G. Nikitin - New fabrication method for diffractive optical elements with deep phase relief. Proc. SPIE, v.3010, 1997, pp. 180-191.
  8. H. Anderson, M. Ekberg, S. Hard, S. Jacobsson, M. Larsson, T. Nilsson. - Single photomask, multilevel kinoforms in quartz and photoresist: manufacture and evaluation, Appl. Opt., 1990, v.29, N 28, pp.4259-4267.
  9. M.Janai, F.Moser - Optical recording in amorphous silicon films. J. Appl. Phys., v.53, N3, 1982, pp. 1385-1386.
  10. CMI Product information No. 95-08. LDW-glass photomask blanks.
  11. S.N.Hounde-Walter, - Gradient Index Optics and Miniature Optics, Proc. SPIE, v. 935, 1988, p.2.
  12. R.-P.Salmio, J.Saarinen, J.Turunen, A.Tervonen - Graded-index diffractive elements by thermal ion exchange in glass, Appl.Phys.Lett. v.66 (8), (1995), pp. 917-919.
  13. V.V. Cherkashin, E.G. Churin, V.P. Korol’kov, V.P. Koronkevich, A.A. Kharissov, A.G. Poleshchuk, J.H. Burge - Processing parameters optimization for thermochemical writing of DOEs on chromium films. Proc. SPIE, v. 3010, 1997, pp. 168-179.
  14. T.J. Suleski, D.C. O’shea - Gray-scale masks for diffractive-optics fabrication: I. Commercial slide imagers, Appl. Opt. v.34, N 32, 1995, pp.7507-7517 .

© 2009, IPSI RAS
Россия, 443001, Самара, ул. Молодогвардейская, 151; электронная почта: journal@computeroptics.ru; тел: +7 (846) 242-41-24 (ответственный секретарь), +7 (846) 332-56-22 (технический редактор), факс: +7 (846) 332-56-20