(22) 13 * << * >> * Русский * English * Содержание * Все выпуски
АНАЛИЗ РАСПРОСТРАНЕНИЯ ИЗЛУЧЕНИЯ ЧЕРЕЗ ОДНОУРОВНЕВЫЕ ФРАГМЕНТЫ ДОЭ
С ТЕХНОЛОГИЧЕСКИМИ ПОГРЕШНОСТЯМИ
Д.Л. Головашкин1,2, В.С. Павельев1,2, М. Дюпарре’3, В.В. Кононенко4
1Институт систем обработки изображений РАН
2Самарский государственный аэрокосмический университет
3Институт прикладной оптики Фридрих-Шиллер Университета (г. Йена, Германия)
4Центр естественно-научных исследований Института общей физики РАН
PDF, 338 kB
Страницы: 62-64.
Язык статьи: Русский.
Аннотация:
Работа посвящена анализу систематических технологических погрешностей, возникающих при изготовлении алмазных ДОЭ с помощью лазерной абляции. Целью предлагаемой статьи является численный анализ влияния погрешностей изготовления в виде «бортиков» на стыках элементарных областей структурирования с одинаковой расчетной высотой
микрорельефа. В работе делаются заключения о допустимой высоте «бортиков» и характере влияния технологических погрешностей различной формы на работу ДОЭ.
Citation:
Golovashkin DL, Pavelyev VS, Duparre M, Kononenko VV. Analysis of light
propagation through one-level DOE-fragments with fabrication errors. Computer Optics 2001;
22: 62-64.
Литература:
- Головашкин Д.Л., Дюпарре М, Павельев В.С.,
Сойфер В.А. Моделирование прохождения ИКизлучения через алмазную дифракционную линзу с субволновыми технологическими погрешностями микрорельефа // Компьютерная оптика, 2001. №21. С.131-133.
- Кононенко В.В., Конов В.И., Пименов С.М.,
Прохоров А.М., Павельев В.С., Сойфер В.А.
Алмазная дифракционная оптика для мощных
CO2-лазеров // Квантовая электроника, 1999,
Том 26, № 1. С. 9-10.
- Electromagnetic Theory on Gratings: Topics in current physics (22, Ed. By R. Petit, N.Y.: SpringerVerlag, 1980)
- Досколович Л.Л. Дифракция на пропускающих
диэлектрических решетках // Методы компьютерной оптики/ под ред. В.А. Сойфера, М.
«Физматлит», 2000. С. 158-175.
© 2009, IPSI RAS
Россия, 443001, Самара, ул. Молодогвардейская, 151; электронная почта: journal@computeroptics.ru; тел: +7 (846) 242-41-24 (ответственный секретарь), +7 (846) 332-56-22 (технический редактор), факс: +7 (846) 332-56-20