(18) 20 * << * >> * Русский * English * Содержание * Все выпуски
Страницы: 130-133.
Язык статьи: Русский.
Аннотация:
При использовании для изготовления дифракционных оптических элементов технологии фотолитографии одним из ответственных этапов является травление. Традиционным способом травления является жидкостное травление. Этот способ хорошо отработан и используется давно, но он имеет ряд ограничений, которые невозможно обойти [1]. Например, подтравливание под край маски (клин травления) ограничивает минимальный размер элемента структуры по площади и его высоту. При жидкостном травлении трудно обеспечить контролируемость и управляемость технологических процессов. Жидкостное травление предъявляет жесткие требования к адгезии и стойкости фоторезиста или другого маскирующего материала, используемого в процессе травления. Плазменное или ‘’сухое” травление позволяет во многих случаях обойти эти ограничения, а также дает новые технологические возможности, недоступные при жидкостной проработке рельефа.
Citation:
Volkov AV, Kazanskiy NL, Rybakov OE. Development of technology for creation of diffractive optical elements with submicron dimensions of the relief in the silicon wafer. Computer Optics 1998; 18: 130-133.
Литература:
© 2009, IPSI RAS
Россия, 443001, Самара, ул. Молодогвардейская, 151; электронная почта: journal@computeroptics.ru; тел: +7 (846) 242-41-24 (ответственный секретарь), +7 (846) 332-56-22 (технический редактор), факс: +7 (846) 332-56-20